某半导体行业研发公司企业因晶圆擦拭制作工序诞生含氨生产废水，容量200吨/天。生产废一般的水都除挥发酚外还所含氟化物和轻微巨资属，处里一定难度大。日本产生标淮规定挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生活污水化学成分及來源 晶圆擦洗废气（常见渠道）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工艺废水处理方法：含轻微铜、镍等巨资属，pH值冲击大 CMP磨细废水处理方法：含硅颗粒物及高锰酸盐指数 处理艺工作流程 所采用"生物学水解+膜提取+折点氯化"搭档工艺流程： 预处置 ：添加CaCl2除氟，把控好pH在7.5-8. 超滤膜操作系统 ：避开0.01μm这些颗粒剂物 反侵入精浓 ：将氟化物高浓至1000mg/L上面的 折点氯化 ：精准控住氯加药系统量，将高锰酸盐指数转变成为氢气 正离子变换 ：保障机制天价属未达标 终极效果好 氟化物稳定性＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属水分含量不超检验限 水造纸废水处理率达75% 污泥处理会产生量减掉40%