某半导体技术存储芯片制作业厂在晶圆加工厂的时候中，施用硅烷完成硅概念生长的，废气清洗塔导致高质量浓度含硅焦化污废水 。焦化污废水 存在pH动荡大（2-11）、硅量高的特征，传统意义工作方式 易经常出现硅垢堵住疑问。 污水基本成分及來源 废污水主要成份为： 充分均匀溶解性硅酸盐 ：SiO₂酸度达1000-1500mg/L 盐酸/氢氧化物钠 ：干洗塔酸碱平衡干洗液残余 颗料硅 ：奈米级SiO₂悬浊液 痕量砷 ：物料其它杂物携带 办理技术流程步骤 企业创新运用"二级与+膜滤过+减压蒸馏成果"工艺流程： 第一与 ：用CaO缓解pH至4-5，制成硅酸钙积累，硅避开率60%。 2级与 ：加Na₂CO₃将pH改善至9，进的一步沉淀物中用不完硅，并接用镁剂除砷。 反渗透膜系统软件 ：0.02μm卫浴陶瓷膜过滤装置纳米级级硅粒子，通量稳定可靠在80LMH。 MVR化掉器 ：精提高盐化工废水，结晶体出Na₂SO₄副货品，水造纸废水处理率超90%。 不可能视觉效果 总硅从1500mg/L降到5mg/L以内 砷含水量从0.8mg/L调至0.01mg/L 操作系统无水垢运转已超2年 第一年二手回收磷酸钠晶状体约800吨