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电子半导体废水处理案例|电子半导体废水处理方法

西南某LED外加片工作机构,因工作工作中采用砷化镓、酸洗铟等III-V族有机化合物,废水里面含砷(As)、镉(Cd)、铅(Pb)等巨资属,设计构思整理建设规模1200吨/日。 化工废水成分表及由来 MOCVD机 刷洗焦化废水 :含前三基镉、前三基铟等无机合金金属类化合物 割孔研磨设备污水 :含nm级金属材料顆粒 镀膜焦化废水 :含铜、镍等金属件阴离子 工作生产工艺具体流程 的创新按照"氧化反应破络+血本属收集+膜剥离"組合加工制作工艺 : 预解决单园 :污泥脱水次氯酸钠溶液分解的生物碳重金属络合物 重要清理标段 : 用到DTCR天价属收集剂建立不可溶螯合物 反渗透装置操作系统(UF)公款私存大原子核生态破坏物 反渗入(RO)脱盐率>98% 污泥干化处置单园 :离心分离脱水除理后交予危废除理除理重心防范 从而效用 经再者方监测: 总砷水分含量:0.05mg/L(标准0.5mg/L) 镉纯度:0.01mg/L(标准0.1mg/L) 水回收利用率:75% 工作资金:3.8元/吨水

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