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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆打造厂隶属于华南地方,大部分生育89英寸半导晶圆,日访问量废渣废气排缩量上涨约800吨。鉴于生育进程中用到非常多的盐酸通过晶圆蚀刻,形成废渣中氟化物氧浓度万代高达200-300mg/L,远超地方废气污染物标准(10mg/L以内)。 污水组成及来自 废水处理方法通常存在两个流程: 晶圆蚀刻步骤 :含高盐浓度氟化物(HF)、硝酸钠及小量天价属 化学工业机械厂拋光(CMP)工业废水 :含納米级硅粉末、充分络合剂 生产设备擦拭废污水 :含异丙醇、氯离子等有机的物 加工处理技艺步奏 用"化工奠定+沥青混凝土奠定+深入过滤装置"三阶段解决系統: 四级解决 :添加氯化钙和氢氧化反应钙,建成氟化钙沉淀出的,氟化物清掉率达85% 五级治疗 :加上PAC(汇聚氯化铝)和PAM(PP酰胺),取除悬浊液态被污染的物 三级考试处置 :使用多媒质过滤皿器和活性酶炭过滤,有水出氟化物酸度不稳定性在8mg/L一些 最为关键的机包涵:pH自己转换机系统、斜管析出池、板框淤泥压滤机(淤泥烘干)。 不可能视觉效果 品牌启用十年污染监测的数据体现 : 氟化物月均溶液浓度:7.2mg/L(不低于我国准则) COD清理率:92% 淤泥含水量率:≤65% 年二手回收氟化钙副车辆约150吨,保证 资原化利用率

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